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场效应管工艺与场效应管的保存是场效应管技术中的两个重要方面。
场效应管工艺方面，其制造过程与晶体管相似，包括扩散、离子注入等工艺，这种工艺使得场效应管的噪声系数较小，且高频特性优良，场效应管具有出色的线性放大功能，其输入阻抗较大，热稳定性良好，这些特性使得场效应管在集成电路设计中具有广泛的应用前景，随着集成电路设计技术的不断进步，场效应管的性能也在不断提高，以满足各种电子设备的需求。
关于场效应管的保存，以下是一些关键要点：
1、由于场效应管是精密的半导体器件，其参数会受温度、湿度和杂质的影响，因此存储环境需要保持干燥、恒温，避免潮湿和高温环境。
2、保存的场效应管应避免受到机械冲击或振动，以防止其内部结构和性能受到影响。
3、在保存期间，应避免长时间暴露在强光下，以防止器件性能发生变化。
4、未使用的场效应管应存放在防静电包装中，避免静电对器件造成损害。
5、对于长期存放的场效应管，应定期进行性能检测，以确保其性能保持良好状态。
场效应管的工艺和保存都是确保场效应管性能和寿命的关键环节，了解这些方面对于正确使用和维护场效应管至关重要。